氮气流速对反应磁控溅射制备TiAlN薄膜微观结构和摩擦学性能的影响
编号：400
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更新：2023-03-28 12:27:22
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口头报告
报告开始：2023年04月23日 17:55 （Asia/Shanghai）
报告时间：15min
所在会议：[N] 摩擦学表面工程论坛二 » [N2] 下午场
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摘要
采用反应磁控溅射技术在Ti6Al4V上沉积了TiAlN陶瓷薄膜，系统研究了不同N2流速对TiAlN薄膜样品的微观结构、力学性能和摩擦磨损性能的影响及其相互之间的变化规律。结果表明：随着N2流速的增加，薄膜以TiAlN相为主，硬度和弹性模量表现为先增加后降低，与H/E*和H/E*2变化趋势相同。当N2流速为16sccm时，薄膜具有最小的磨损宽度和最低的磨损率。随着N2流速由12 sccm增加到 24sccm，薄膜的磨损机制由最初的磨粒磨损和粘合磨损转变为严重塑性变形引起的磨粒磨损，这与薄膜的微观结构和力学性能有直接的关系。
关键字
N2流速；TiAlN薄膜；力学性能；
摩擦学性能
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