等离子体渗碳/氮技术的拓展性研究及其理论计算
编号：476
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更新：2023-04-13 16:12:42
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口头报告
报告开始：2023年04月23日 11:30 （Asia/Shanghai）
报告时间：15min
所在会议：[Y3] 第十四届全国青年表面工程论坛三 [Y3-1] 上午场
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摘要
等离子体化学热处理技术是一种传统的表面强化技术，围绕该技术我们做了一些拓展性的研究工作：（1）利用辉光放电等离子体渗氮/碳技术实现了连续制备渗氮/碳层+GLC薄膜复合层，获得一种低成本制备耐磨减摩层的方法，并利用理论计算揭示了氮化物/碳化物对薄膜的诱导生长机制；（2）利用弧光等离子体镀膜设备开发了快速等离子体渗氮技术和等离子体渗镀复合一体化技术，具有重要的应用价值；（3）利用理论计算揭示了稀土渗氮/碳的催渗机制，指导稀土渗氮/碳技术的推进。我们认为，利用理论计算指导传统技术的创新研究，促进传统多技术（离子镀膜和等离子体渗氮/碳）的交叉和融合是未来的研究趋势。
关键字
渗氮、渗碳、第一性原理、GLC、稀土
报告人
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