纳秒脉冲光纤激光退火铜基铌三锡薄膜的研究
编号:424 稿件编号:516 访问权限:仅限参会人 更新:2023-03-09 11:16:12 浏览:329次 张贴报告

报告开始:2023年04月23日 08:35 (Asia/Shanghai)

报告时间:5min

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摘要
铌三锡薄膜射频超导腔技术在加速器的加速梯度、低温损耗等指标上都代表了超导直线加速器的未来。铜基铌三锡薄膜射频超导腔具有低成本、高热稳定性和高机械稳定性等优势,是未来超导腔的主流发展方向。而目前铜基铌三锡薄膜腔的性能很大程度受制于其表面缺陷,可利用退火的方式消除,由于铜基底的较低熔点,传统管式炉退火会引起铜基底的蒸发,而本研究提出对铌三锡薄膜腔使用激光退火的方式消除其表面缺陷。激光退火具有效率高、热影响区浅等特点,可以对铌三锡薄膜进行快速浅表层退火。国内外近五年使用准分子激光器和CO2气体激光器进行了激光退火铌三锡的研究,由于激光器自身限制,其处理效果并不理想。目前近物所以一台kW级纳秒脉冲光纤激光器为基础搭建了一套完整的激光退火处理平台,可对样品和整腔退火。对样品的研究结果表明:激光退火能消除大部分表面缺陷,极大程度改善样品的表面状态。该研究证实了利用纳秒脉冲光纤激光对铜基铌三锡进行激光退火的可行性和优越性,为铜基铌三锡整腔退火奠定了坚实的基础。
 
关键字
射频超导,铜基铌三锡,光纤激光器,激光退火,有限元模拟
报告人
王长霖
学生 中国科学院近代物理研究所

稿件作者
王长霖 中国科学院近代物理研究所
初青伟 中国科学院近代物理研究所
欧阳长安 中国科学院近代物理研究所
谭腾 中国科学院近代物理研究所
朱同同 中国科学院近代物理研究所
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